1-(2-羟乙基)-2-吡咯烷酮 3445-11-2

产品价格: ¥39.00
产品型号:3445-11-2
 牌:HZbscience
公司名称:上海沪震实业有限公司
  地:上海松江
浏览次数:
更多
立即询价 在线咨询

产品简介

1-(2-羟乙基)-2-吡咯烷酮价格,说明书,规格,纯度。
1-(2-羟乙基)-2-吡咯烷酮, >98.0%(GC)
 1-(2-Hydroxyethyl)-2-pyrrolidone
别名:	N-羟乙基吡咯烷酮;N-羟乙基-2-吡咯烷酮 
Cas号:	3445-11-2 物化性质:	 
分子式:	C6H11NO2 熔点:	19-21°C 
分子量:	129.16 沸点:	140-142 °C3 mm Hg(lit.) 
密度:	1.143 g/mL at 25 °C(lit.) 
储存条件:	室温 

产品详细信息

1-(2-羟乙基)-2-吡咯烷酮, >98.0%(GC)
 1-(2-Hydroxyethyl)-2-pyrrolidone
别名: N-羟乙基吡咯烷酮;N-羟乙基-2-吡咯烷酮 
Cas号: 3445-11-2 物化性质:  
分子式: C6H11NO2 熔点: 19-21°C 
分子量: 129.16 沸点: 140-142 °C3 mm Hg(lit.) 
密度: 1.143 g/mL at 25 °C(lit.) 
储存条件: 室温 

1-(2-羟乙基)-2-吡咯烷酮光刻胶高纯试剂 :

光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶,按所用曝光光源和辐射光源的不同,又可将其分为紫外、远紫外、电子束、 X 射线等光刻胶。

光刻胶是微细图形加工的一种关键试剂,要求水分低、金属杂质含量低(≤ 10 -6 )

1-(2-羟乙基)-2-吡咯烷酮磨抛光高纯试剂 :

是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求 2.0 × 10 -4 — 5 × 10 -5 ﹪

1-(2-羟乙基)-2-吡咯烷酮液晶高纯试剂 :

液晶是一类电子化学材料,是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人称他为第四态。

液晶种类繁多,用途*广,前景*大的要属 TN( 低档 ) 、 STN (中**)、 TFT (**)型。 TN 、 STN 及TFT 三种型号所组成的单体液晶,主要包括芳香酯类、联苯类、苯基环已烷类、铁电类以及含氟液晶品等五种,它们是当今及今后使用及发展的主要对象。1-(2-羟乙基)-2-吡咯烷酮这类高纯试剂要求含量高(≥ 99 ﹪),水分含量低(≤ 10 -6 ),金属杂质含量少(≤ 10 -6 )。

在线询价

您好,欢迎询价!我们将会尽快与您联系,谢谢!
  • *产品名称:
  • 采购数量:
  • 询价有效期:
  • *详细说明:
  •   100
  • *联系人:
  • *联系电话:
  • 附件: 附件支持RAR,JPG,PNG格式,大小在2M范围
验证码: 点击换一张
 
   温馨提示:为规避购买风险,建议您在购买前务必确认供应商资质与产品质量。

   免责申明:以上内容为注册会员自行发布,若信息的真实性、合法性存在争议,平台将会监督协助处理,欢迎举报
产品标签