功能齐全 重庆内藤销售 FE-5000 光谱椭偏仪 OTSUKA大塚電子 FE-5000
产品简介
除了能够进行高精度薄膜分析的分光椭圆偏振光谱仪之外,还可以通过安装测量角度的自 功能齐全 重庆内藤销售 FE-5000 光谱椭偏仪 OTSUKA大塚電子 动可变机构来支持各种薄膜。除了传统的旋转分析仪方法之外,通过提供相位差板的自动 功能齐全 重庆内藤销售 FE-5000 光谱椭偏仪 OTSUKA大塚電子 回缩机构来提高测量精度。
产品详细信息
除了能够进行高精度薄膜分析的分光椭圆偏振光谱仪之外,还可以通过安装测量角度的自动可变机构来支持各种薄膜。除了传统的旋转分析仪方法之外,通过提供相位差板的自动回缩机构来提高测量精度。
(详情请咨询TEL: QQ;1280713150 白先生)
特点
- 椭圆参数测量可以在紫外和可见光(250-800nm)的波长范围内进行
- 纳米级多层薄膜的厚度分析
- Ellipso光谱可以通过400多ch的多通道光谱快速测量
- 对应于通过可变反射角度测量的薄膜的详细分析
- 通过创建光学常数数据库并添加配方注册功能,可以增强操作的便利性
- 可以通过层膜配合分析通过光学常数测量来控制膜厚度/膜质量
测量项目
- 椭圆参数(tanψ,cosΔ)测量
- 光学常数(n:折射率,k:消光系数)分析
- 薄膜厚度分析
应用程序使用
-
半导体晶片
的栅氧化膜,氮化物膜
的SiO 2,硅X ö ÿ,氮化硅,的SiON,氮化硅X,AL 2 ö 3由SiN X ö ÿ,多晶Si,硒化锌,BPSG,氮化钛
的抗蚀剂(波长色散)的光学常数 -
化合物半导体
Al x Ga (1-x) As多层膜,非晶硅 -
用于等离子显示器的FPD
定向膜
ITO,MgO等 -
各种新材料
DLC(Diamond Like Carbon),超导薄膜,磁头薄膜等 -
光学薄膜
TiO 2,SiO 2,多层膜,减反射膜,反射膜 -
光刻领域
g线(436纳米),h线(405纳米),i线(365纳米)中,n在各波长,诸如KrF受(248nm的)中,k评价
产品规格
模型 | FE-5000S | FE-5000 |
测量样本 | 反射测量样本 | |
样本大小 | 100 x 100毫米 | 200 x 200毫米 |
测量方法 | 旋转分析仪方法* 1 | |
测量的薄膜厚度范围(nd) | 0.1纳米 - | |
事件(反射)角度范围 | 45到90° | 45到90° |
事件(反射)角度驱动系统 | 自动签名栏的驱动方法 | |
入射点直径* 2 | 关于φ2.0 | 关于φ1.2sup * 3 |
tanψ测量精度 | ±0.01以下 | |
cosΔ测量精度 | ±0.01以下 | |
膜厚的可重复性 | 0.01%以下* 4 | |
测量波长范围* 5 | 300至800纳米 | 250至800纳米 |
光谱探测器 | 多色仪(PDA,CCD) | |
测量光源 | 高稳定性氙灯* 6 | |
舞台传动系统 | 手册 | 手动/自动 |
加载器兼容 | 不当 | 是的 |
尺寸,重量 |
650(W)×400(D)×560(H)mm 约50kg |
1300(W)×900(D)×1750(H)mm 约350kg * 7 |
软件 | ||
分析 |
*小二乘薄膜分析(折射率模型函数,柯西色散方程模型方程,如NK-柯西色散方程模型分析) 理论方程分析(本体表面NK分析,角度依赖性同时分析) |
* 1可以驱动偏光片,可以去除对死区有效的延迟片。
* 2取决于短轴·角度。
* 3小点对应(选项)
* 4使用VLSI标准SiO2膜(100nm)时的值。
* 5可以在此波长范围内进行选择。
* 6光源根据测量波长而变化。
* 7选择自动舞台时的值。
原则
包括s波和p波的线性偏振光入射到样本上,并测量反射光的椭圆偏振光。s波和在相位p波的变化和独立地振幅比tanψ和p波和S波的反射率的相位差的两个偏振取决于获得样品Δ的转换参数。
tanψ,consΔ被称为椭球参数,椭圆光谱法测量这两个参数的波长相关谱。
光学系统图