1．分析样品所用的坩埚需在每次分析后进行清扫，确保无上次分析的样品残留。2．分析低含量试样所用的硅钼粉及助熔剂需在恒温箱中，加热至200℃烘2小时后，取出在干燥器中冷却后使用。<p class="p0" style="text-align: left; line-height: 22pt; margin-top: 4pt; text-indent: 24pt; margin-bottom: 0pt; margin-right: 6.
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