1英寸高真空磁控溅射头-HVMSS-SPC-1-LD

VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2'的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。

ZH5493型射频磁控溅射镀膜装置真空系统：2XZ-4型旋片真空泵，抽气速率：4L/S，单相220V交流电源供电；

2英寸高真空磁控溅射头-HVMSS-SPC-2

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的*简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的*简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。

多靶磁控溅射镀膜机 型号：YQDH-500JJC 采用分子泵+直联机械泵机组，具有抽速快，无油，操作方便快捷，易于维护的特点。