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基板用接近曝光设备 MA-5701ML

基板用接近曝光设备 MA-5701ML
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产品价格： < 面议
产品型号：MA-5701ML
品 牌：DNK大日本科研
公司名称：深圳市京都玉崎电子有限公司
所 在 地：广东深圳
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产品简介

G1~G3基板用接近曝光设备MA-5701ML
基板用接近曝光设备装载有边缘传感器和间隙传感器的非接触式近接曝光装置。*适合触摸屏及有机EL等的量产。

产品详细信息

G1~G3基板用接近曝光设备MA-5701ML

深圳市京都玉崎电子有限公司
项目担当：陈永康
电话：

Q  Q：2853007784

网址：www.ktts.cn

基板用接近曝光设备G1～G3基板用近接曝光装置

装载有边缘传感器和间隙传感器的非接触式近接曝光装置。*适合触摸屏及有机EL等的量产。

主要特长


            基板用接近曝光设备


  • 能够进行节拍时间约20秒(标准规格机，对位容许值设定为0.5μm时。不含曝光时间。)的高速曝光处理。
  • 利用直读式间隙传感器与独自的控制系统,能够高速度和高精度地设定掩膜与基板间的近接间隙 。
  • 可配置严格控制处理部位温度环境的温控机房。为了防止因热而引起的基板伸缩,还可选用基板台温度调控系统。
  • 可选择配置基板台温度控制系统及掩膜冷却系统，以防止掩膜及玻璃基板因温度差而引起的伸缩。(选购项)
  • 能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库
主要规格基板用接近曝光设备
  MA-5501ML MA-5701ML
基板尺寸 370 x 470mm 550 x 650mm
对位 非接触预对位～自动对位
间隙 拥有传感性能
光源 超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW or 5kW 超高压水银灯 ：10kW
外观尺寸及重量 本体尺寸 W2400 x D2480 x H2290mm
(另有控制箱、局部空调、冷水机) 		W3600 x D3870 x H2500mm
(另有控制箱、局部空调、冷水机)
本体重量 1500kg 1900kg
光源重量 500kg 1100kg
无尘机房重量 250kg 300kg
选购项 掩膜冷却、基板台温度调节、温控机房、特殊对位照明
用途 触摸屏、彩色滤光片、有机EL、C－STN、电子纸等

基板用接近曝光设备基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽


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深圳市京都玉崎电子有限公司