等离子去胶机 wafer晶圆除胶处理设备 ICP500

等离子清洗机能各种基础材料活化表面，去污，提高亲润性，解决印刷，粘接不牢固问题；电子产品刻蚀，除胶，改善附着力
等离子清洗机英文叫（Plasma Cleaner）又称等离子体清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机，等离子表面处理机,电浆清洗机，plasma清洗机，等离子去胶机，等离子清洗设备。等离子清洗机/等离子处理机/等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子处理和等离子表面处理等场合。

通过等离子清洗机表面处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。

等离子清洗机能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，低温处理，不损伤样品，等离子去胶机不但可以去除一般的光刻胶，还可以去除在等离子刻蚀过程中产生的残留聚合物。

晶圆光刻胶的去除，等离子清洗机起到关键作用！

等离子清洗机在去除光刻胶方面的具体用途：等离子清洗机器的应用包括预处理、灰化/光致抗蚀剂/聚合物剥离、芯片碰撞、静电消除、介质蚀刻、有机污染去除、芯片减压等。使用等离子清洗机不仅可以彻底去除光致抗蚀剂和其他有机物质，而且可以活化和增厚芯片表面，提高芯片表面的润湿性，使芯片表面更有粘合力。