UV照度设备 HMW-615N-3

其他型号：
HMW-615N-4，VUM-3073F。日本ORC,UV照度设备HMW-615N-3;

半導体製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細なパターンを形成する工程において、基板の表面に残る有機物に、UVを照射して有機物汚染を非接触で除去する装置です。基板イダメージを与えずに表面の洗浄と改質が出来ます。
另外一款VUM-3073F产品图：
日本ORC,UV照度设备HMW-615

日本ORC,UV照度设备HMW-615N-3;

1.基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い独自の低圧ＵＶランプを搭載しています。
2.基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
3.基板はあまり加熱されません。
4.オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。
 
其他型号：
HMW-615N-4，VUM-3073F。日本ORC,UV照度设备HMW-615N-3;

半導体製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細なパターンを形成する工程において、基板の表面に残る有機物に、UVを照射して有機物汚染を非接触で除去する装置です。基板イダメージを与えずに表面の洗浄と改質が出来ます。


另外一款VUM-3073F产品图：

日本ORC,UV照度设备HMW-615N-3;

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