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超纯水除静电设备领域的*杰出代表
晶元和半导体芯片切割机的必配设备
特征:
- 超越新世纪的节约环保设计理念,采用当前*先 进的比阻抗控制技术,来抑制超纯水中静电的发生。
- 在半导体制造和FPD制造、晶元(芯片)切割工序 中被用来对超纯水进行比阻抗的**化控制,防止 静电破坏和微粒子的附着。
- 创造划时代技术指标的***产品。
- 可根据用途选择相应机型
- 装机容易
全机型阻抗探头内置,配管容易。
- 大水量,压力损失小
水量3000L/h时,压力损失0.06MPa
- 操作简单,控制精度高
开机后只需输入所要阻抗值,即可 马上进行±0.03MΩ/cm**控制。
- 可在高水压环境下运行
*高使用压力在0.5MPa,可以自由 进行机种配置。
- 水量变动应答速度快
使用水量发生很大变化时也能迅速 做出调整控制。
- 经济环保
不需要Co2溶解膜等旧式机种必 不可少的高价的消耗品,Co2排气 和排水也不要。
- 双氧水**对应
可用3%双氧水进行**处理, **繁殖也不用担心。
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规 格 |
机型 |
Rack type |
N4R-1.0-50 |
N4R-2.0-120 |
N4R-3.0-120 |
Cabinet type |
N4C-1.0-50 |
N4C-2.0-120 |
N4C-3.0-120 |
处理量 |
100--1000L/h |
200--2000L/h |
300--3000L/h |
控制范围 |
0.15--1.7MΩ/cm |
0.15--1.5MΩ/cm |
0.15--1.9MΩ/cm |
精度 |
Set resistivity±0.03MΩ/cm |
*大水压 |
0.5MPa |
CO2压力 |
0.7MPa |
压力损失 |
0.06MPa at 3000L/h |
接口尺寸 |
3/4"female screw |
重量 |
Rack type |
28Kg |
Cabinet type |
67Kg |
外形尺寸 |
Rack type |
480W*430L*250H(mm) |
Cabinet type |
430W*430L*1350H(mm) |
电源 |
AC100--130V,AC220--240V,50/60Hz,single phase 1A |
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