去蜡清洗剂 NP-E800系列
产品简介
去蜡清洗剂 NP-E800系列去蜡清洗NP-E800系列去蜡清洗剂适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等表面加工过程中粘结蜡的清洗,同时对晶片表面颗粒物和各种有机物、指纹等污染物有超强的净洗能力,洗后晶片表面无蜡残留,而且对半导体材料和光学材料本身无腐蚀。
产品详细信息
1. NP-E800系列去蜡清洗NP-E800系列去蜡清洗剂适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等表面加工过程中粘结蜡的清洗,同时对晶片表面颗粒物和各种有机物、指纹等污染物有超强的净洗能力,洗后晶片表面无蜡残留,而且对半导体材料和光学材料本身无腐蚀。
特点
² 高效:清洗快速,清洗过程只需要5~15分钟即可,清洗能力强。
² 使用方便:清洗工艺简单,清洗操作方便,保持清洗剂沸腾或配合超声设备使用。
² **环保:本清洗剂为水基配方,不含有毒、有害成分,对人体无伤害,残液排放后15天可以自然降解。
2. 使用范围及参数
适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等晶片表面加工过程中去蜡的清洗过程
型号 | 比重 | pH | 稀释比例 | 使用温度 | 适用范围 |
NP-E800 | 1.00~1.05 | 11.0 | 5~10 | >80�� | 碱性,针对中高温蜡 |
NP-E801 | 1.00~1.05 | 7.0~8.0 | 5~10 | >80℃ | 中性,针对中高温蜡 |
NP-E802 | 1.00~1.05 | 7.0~8.0 | 5~10 | >55℃ | 中性,针对砷化镓低温清洗 |
NP-E803 | 1.00~1.05 | 7.0~8.0 | 5~10 | >95℃ | 中性,其他规格蜡的清洗 |
NP-E810 | 0.95~1.00 | —— | 原液使用 | 40~80℃ | 溶剂型,适用各种蜡 |
NP-E820 | 1.00~1.05 | 7.0~8.0 | 5~10 | 40~80℃ | 与NP-E810配套使用 |
3.清洗工艺
NP-E800系列去蜡清洗剂可配合超声清洗设备使用,也可在特定温度下浸泡式清洗。