X-5000 ROHS检测仪
产品简介
X-5000是一种体现X射线荧光分析技术*新进展的能量色散X射线荧光光谱仪。它采用低功率小型X光管为激发源,电制冷硅半导体探测器为探测单元,再加上我公司专门开发的应用软件,充分发挥各部件的优异性能,保证了整台仪器的高分辨率及通用适应性。任何需要多元素同时分析的地方,正是它大有作为之处。
产品详细信息
产品详情: X-5000是一种体现X射线荧光分析技术*新进展的能量色散X射线荧光光谱仪。它采用低功率小型X光管为激发源,电制冷硅半导体探测器为探测单元,再加上我公司专门开发的应用软件,充分发挥各部件的优异性能,保证了整台仪器的高分辨率及通用适应性。任何需要多元素同时分析的地方,正是它大有作为之处。下面将该仪器的资料作简单介绍。 整机技术规格: 激发源:本机采用低功率 X 射线管(Mo靶),*高电压可达50KV,*大电流1mA 高压电源:*大50W,50KV,1mA 探测器:电制冷 Si PIN半导体探测器(55Fe的能量为5.9Kev的MnKα线,分辨率优于149eV) 多道分析器:2048道 软件:基于WINDOWS的强大工作软件。定量分析包括:经验系数法,理论a系数法和基本参数法。定性分析包括:KL线标记,谱图比较和光标寻峰等。客户可进行二次开发,自行开发任意多个分析方法。 电源:交流220V 50Hz 体积:520mm x 600mm x 270mm 重量:约 42kg (主机) 整机技术性能: 测量元素范围宽:从铝(13)至铀(92)都可测量 测量含量范围,从ppm至100% 测量速度快,通常为几十秒到几分钟 多元素同时定性定量 蜂位漂移:八小时小于1% 进口探测器的性能指标: 探测器类型:电制冷Si-PIN 探测面积:2.4x2.8mm(7mm2) 硅活化区厚度:300um 探测器分辨率:对于55Fe,@5.9keV 对于12us的形成时间,半高宽为149Ev 探测器窗口:铍窗,25um厚 进口高压电源规格: 电压和电流从零至满量程连续可调,*大50KV,1mA 电压调整率:负载调整率:从空载到满载,电压变化为满量程的 0.01 % 线性调整率:对于规定的输入电压范围,该数值为满量程的0.01% 电流调整率:负载调整率:从空载到满载,电流变化为满量程0.01% 线性调整率:对于规定的输入电流范围,该数值为满量程的0.01% 稳定性:经过半小时预热后,每8小时变化不超0.05% 温度系数:温度变化一度,电压变化不超过0.01% 详细参数: 定量测量范围:Pb,Hg,Cr,Cd,Br 测量精度:低于100ppm时**度15ppm,大于100ppm时,**度15% 分析元素:Pb,Hg,Cr,Cd,Br 检出限: Pb:3.2 mg/kg (ppm) Hg:3.2 mg/kg (ppm) Cr:4.1 mg/kg (ppm) Cd:5.8 mg/kg (ppm) Br:3.1 mg/kg (ppm) 测量时间:30秒——120秒可选 X射线源:X光管 工作环境温度:10℃——45℃ 工作环境湿度:20%——80% 高压器:50Kv 操作系统:windows XP |