日本YAMATO自动化等离子处理机 ISP500

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产品型号：ISP500

品牌：其它品牌

公司名称：深圳市朗普电子科技有限公司

所在地：广东深圳

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产品简介

日本YAMATO自动化等离子处理机 ISP500 本产品是用等离子来进行表面处理的专业装置。具有高性能，力求操作简便，快捷，可显示数据。广泛应用于以电子材料为中心的各个行业中。用途:用于CSP、BGA、COB、基板的等离子处理。消除有机膜，金属氧化膜。用于印刷电路板的干式清洗。界面活性处理。

产品详细信息

日本YAMATO自动化等离子处理机 ISP500

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Plasma Model（模式）

RIE/DP

RIE : Reactive Ion Etching（蚀刻）
DP : Direct Plasma（直接作用）

RF Generator（高频输出功率）

10 to 500W

Oscillating Frequency（振荡频率）

13.56MHz

Chamber Size工作室尺寸 (mm)

344W×230D×45H

用途：

*BGA、CSP和摄像基板的等离子处理。

*基板表面的改质。

*电子半导体产业相关部件、材料的

干洗、蚀刻及灰化。

*酸化膜、有机膜的除去。

*界面活性处理。

*表面污染物的去除。

生产线编入和独立使用型In-Line and Stand Alone Type (Strip to Strip process)

Outline（概要）
Two lead frame (strip) vertical or parallel loading function.（双导引结构，垂直或水平装载功能。） Pull out two strip from Magazine--Loading two strip into the chamber--Plasuma cleaning process--Unloading two strip from chamber--Strip goes to magazine or next process to direct.
Total system controlled by PLC controller.（全系统PLC控制） LCD touch panel display and operation.（触摸式液晶显示屏操控） Lead frame (strip) size（导引带尺寸）--Up to 25 to 80(W)×100 to 250(L)×0.2 to 2.5(t)mm also. We can provide Customized In-Line plasma.（我们能够提供用户特制规格的生产线嵌入式等离子装置）

Feature（特点）

Special electrode built in for getting good plasma efficient.（设计有能取得良好等离子效果的特殊电极）
RIE/DP mode selectable（可选择使用RIE和DP模式）
RF power up to 500W （高频功率提高到500W）
All automatic operation（全自动操作运行）
LCD touch panel and PLC control （触摸式LCD操控板）
Any chamber size are available for customer's Lead frame or strip. （可以制作特殊规格的工作室尺寸）

ISP500 Series

Specifications（规格简介）

Model（型号）	ISP500 series（系列）
Plasma method （模式）	RIE/DP mode
RF generator（高频功率）	10 to 500W
Oscillation frequency（振荡频率）	13.56MHz
Control system（控制系统）	LCD touch panel with PLC
Tuning method（运行方式）	Automatic tuning
Chamber size（工作室尺寸）	344(W)×230(D)×45(H)mm
Electrode size（电极尺寸）	250(W)×180(D)mm
Gas system（供气系统）	Mass flow control 2 line