真空气氛烧结炉 KXF16Q-III

这款气氛箱式炉（真空气氛烧结炉、气氛箱式炉、气氛烧结炉、可控气氛炉、高温气氛炉、箱式可控气氛炉）以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，真空气氛烧结炉有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，并可以用真空泵预抽真空排除炉膛内气体，该真空气氛烧结炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

控温仪表：日本岛电（具有超温、过温、断偶保护、软启动、限流等功能，6组PID调节，控制精度+/-1℃）
电    　器：正泰
加热元件：1800型硅钼棒或钼丝
炉    　膛：1800型氧化铝多晶纤维
测压系统：压力表
进气系统：浮子流量计

真空气氛烧结炉规格型号：