气氛真空炉 KXF16Q-IV
产品简介
该气氛真空炉炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
产品详细信息
这款气氛真空炉(真空气氛烧结炉、气氛箱式炉、气氛烧结炉、可控气氛炉、高温气氛炉、箱式可控气氛炉)以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,真空气氛烧结炉有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴,可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体,并可以用真空泵预抽真空排除炉膛内气体,该气氛真空炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
控温仪表:日本岛电(具有超温、过温、断偶保护、软启动、限流等功能,6组PID调节,控制精度+/-1℃)
电 器:正泰
加热元件:1800型硅钼棒或钼丝
炉 膛:1800型氧化铝多晶纤维
测压系统:压力表
进气系统:浮子流量计
气氛真空炉规格型号:
型号 |
深(d) |
宽(w) |
***) |
功率(kw) |
电压(v) |
*高温度(℃) |
KXF16Q-Ⅰ |
160 |
150 |
150 |
3 |
220 |
1600 |
KXF16Q-Ⅱ |
200 |
200 |
200 |
6 |
220 |
1600 |
KXF16Q-Ⅲ |
300 |
200 |
200 |
8 |
220 |
1600 |
KXF16Q-Ⅳ |
300 |
250 |
250 |
10 |
380 |
1600 |
KXF16Q-Ⅴ |
400 |
300 |
300 |
13 |
380 |
1600 |
KXF16Q-VI |
600 |
200 |
200 |
12 |
380 |
1600 |
型号项目 | 单位 | KXF16Q-I | KXF16Q-II | KXF16Q-III | KXF16Q-IV | KXF16Q-V |
炉体结构 | 双层壳体结构,并配有风冷系统 | |||||
额定功率 | KW | 4 | 6 | 8 | 9 | 13 |
额定电压 | V | AC220V | AC220V | AC220V | AC380V | AC380V |
频率 | HZ | 50/60 | ||||
相数 | 相 | 单相 | ||||
温度范围 | ℃ | 800-1600 | 800-1600 | 800-1600 | 800-1600 | 800-1600 |
额定温度 | ℃ | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
升温速率 | ℃/min | ≤15 | ≤15 | ≤15 | ≤15 | ≤15 |
炉膛尺寸 | cm | 16X15X15 | 20X20X20 | 30X20X20 | 30X25X25 | 40X30X30 |
外型尺寸 | cm(LXWXH) | 52X48X80 | 56X53X85 | 56X63X85 | 61X63X93 | 66X73X140 |
控温精度 | ℃ | ±1 | ±1 | ±1 | ±1 | ±1 |
控温方式 | 40段程序控温 PID 调节 可控硅控制 | |||||
热电偶型号 | 分度 | B | B | B | B | B |
加热元件 | 1800型硅钼棒 | |||||
炉膛材料 | 1800型氧化铝多晶纤维 (氧化铝含量95%以上, ) | |||||
炉体四周表面温度 | ℃ | ≤35 | ≤35 | ≤35 | ≤35 | ≤35 |
炉子接空气开关型号 | 32A | 50A | 63A | 50A | 80A | |
通讯接口 | 可根据客户的需要配通讯接口 | |||||
单价 | 元 | 43600 | 49800 | 55000 | 63000 | 72000 |