MDA-400M型紫外曝光机/光刻机 MDA-400M
产品简介
MYCRO韩国制造的紫外曝光系统,适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。
产品详细信息
系统组件:
紫外光源构造
带托盘的晶片工作台
配CCD镜头的显微镜
监视器
掩膜夹具
紫外光源透镜
紫外光源镜片
紫外灯电源系统
操作控制器
350W紫外灯
参数:
晶片台
基底尺寸 标准尺寸 *大至4英寸;可选*大至6英寸;
托盘 标准尺寸 *大至4英寸;可选*大至6英寸;
活动范围
X:10mm Y: 10mm Z : 10mm Theta: 4 degree
对准精度 1um
挤入补偿 Air bearing型
Z轴滑动手动
真空泵 无油真空泵
掩膜台
掩膜夹具类型 真空吸附和机械夹取
紫外光源
紫外灯 350 瓦
均匀光束大小 4.25“ X 4.25“
曝光模式 压缩/真空/相邻
曝光时间控制 可编程控制型
曝光定时器 1 ~ 999.9 秒
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