现货美国AT膜厚测厚仪，纳米级在线多层膜重检测仪 A3-SR
产品简介
利用红外光度测定进行非透明样品测量 · 测量速度高达60 Hz · 测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆 · 长工作距离 · 映射功能 · 可外部控制 膜厚测量原理和特性
产品详细信息
光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，选配的映射系统可以测量指定样品的厚度分布。INF-1应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。
详细参数
特性
- · 利用红外光度测定进行非透明样品测量
- · 测量速度高达60 Hz
- · 测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆
- · 长工作距离
- · 映射功能
- · 可外部控制
膜厚测量原理和特性
应用
配置
分析示例
参数
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型号 |
C11011-01 |
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可测膜厚范围（玻璃） |
25 μm to 2200 μm*1 |
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可测膜厚范围（硅） |
10 μm to 900 μm*2 |
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测量可重复性（硅） |
100 nm*3 |
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测量准确度（硅） |
< 500 μm: ±0.5 μm； > 500 μm: ±0.1 %*3 |
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光源 |
红外LED（1300 nm） |
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光斑尺寸 |
φ60 μm*4 |
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工作距离 |
155 mm*4 |
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可测层数 |
一层（也可多层测量） |
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分析 |
峰值探测 |
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测量时间 |
16.7 ms/点*5 |
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外部控制功能 |
RS-232C / PIPE |
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接口 |
USB2.0 |
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电源 |
AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
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功耗 |
50W |
*1：SiO2薄膜测量特性
*2：Si薄膜测量特性
*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差
*4：可选配1000mm工作距离的模型C11011-01WL
*5：连续数据采集时间不包括分析时间
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