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化学气相沉积炉 PECVD1200

化学气相沉积炉 PECVD1200 化学气相沉积炉 PECVD1200 化学气相沉积炉 PECVD1200
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产品型号：PECVD1200
品 牌：燕园科技
公司名称：东莞燕园半导体科技有限公司
所 在 地：广东东莞
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产品简介

PECVD1200等离子气相沉积炉是我公司在消化吸收国外同类产品的基础上，与北京大学东莞光电研究院共同研制开发的。广泛应用于薄膜生长等工艺。本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做等离子体增强CVD实验用的理想产品。

产品详细信息

技术特点：

1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

    2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。

    3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。

    4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

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东莞燕园半导体科技有限公司
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