往复样品台双靶DCRF磁控溅射镀膜仪 TN-MSP500S-DCRF-RE

○产品介绍

TN-MSP500S-DCRF-RE往复样品台型双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪，磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。本型号样品台采用往复式设计，左侧配有磁力耦合推杆，可将样品台左右推动。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备.

○适用范围

设备配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。

○产品特点

1、双靶共同溅射或者反应溅射

2、磁控靶带水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量。  

3、样品台往复式设计，左侧配有磁力耦合推杆，样品台左右推动

4、直流加射频电源满足多种材料溅射

5、触控屏控制，内置一键式镀膜程序

○技术参数

○免责声明

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