CVD系统 TN-O1200-80MPECVD-3Z
产品简介
该套CVD系统主要由：材料加热、真空获取、气体测量和等离子发生器四大部分构成。可以满足日常的大多数CVD实验和各种科研要求。该CVD系统是材料制备过程中的理想之选。
产品详细信息
○ 产品介绍
一体式CVD系统设计紧凑，使用方便。特别是丰富的图文界面，即使您是**次操作，该系统也能顺利引导您很快掌握该CVD系统的使用和操作，您根本无需专业学习，为您节省大量的科研时间，真正做到事倍功半！
○ 适用范围
可以满足日常的大多数CVD实验和各种科研要求。是材料制备过程中的理想之选。
○ 产品特点
1、丰富的图文信息：全尺寸液晶图文界面
2、系统高度集成：各个部分均由软件协同进行数据采集、交换、处理、输出
3、可使实验步骤程序化、自动化
○ 技术参数
工作电压：AC220/AC110V
工作频率：50Hz/60hz
工作温度：25℃～1100℃
测量精度：0.1℃
控温精度：±1℃
加热区长：400mm
恒温区长：200mm
射频频率：13.56MHz
射频功率：0～500W（可调节）
匹配模式：自动匹配
气体通道：3通道
气体测量：质量流量计
量程范围：0～500SCCM
真空设备：分子泵组
真空测量：复合真空计
○ 免责声明
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