定向CVD生长炉
产品简介
定向CVD生长炉是一款水平滑轨炉,其炉管直径为Φ50mm,炉体滑动速度可以根据实验需要而设置(1mm/sec-100mm/s),并可以设置左右反复滑动,同时还可以设置炉体的滑动距离。此款管式炉专门设计用CVD方法定向生长单壁碳纳米管(SWCNTs)。通时此款滑轨炉也可用来在硅片上生长熔点较低的金属单晶。此系统包含了可设30段程序的高温炉、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不锈钢真空法兰。
产品详细信息
技术参数
名称
定向CVD生长炉
主要参数
·*高工作温度 1200°C ( < 1 hour )
·正常工作温度: 1100°C
. 电压;220v
. 功率:1.5W
·加热区:200mm(单温区)
·恒温区:60mm(±1℃)@1000℃
特点
1.双石英管:外管直径100mm ,悬挂的内管直径 80mm. 金属箔缠绕在内管的外表面上发生CVD反应。
壳体结构
· 采用双层壳体结构,并带有风冷系统
· 一个滑轨安装在炉体下端,可通过一6“的触摸屏来控制炉体移动方向、滑动速度和往返次数
炉管
· 高纯石英管
· 尺寸:50 mm OD x 46mm ID x 1000 mm L
· 仪器加热前,必须放入管堵,以防止热量辐射影响法兰的密封性
炉体滑动控制系统
· 触摸屏控制
· 炉体移动有手动和自动控制两种控制状态,在手动状态和自动状态下均可设定左右移动的速度,但只有在自动状态下才能设定左右移动的次数。
· 含蜂鸣报警器,当炉体触碰到限位开关就会产生报警,并切断控制电路,使炉体停止移动。
· 可显示高温炉内的炉温,与之通
滑轨长度
1200MM
控温系统
· 采用PID方式调节温度,可设置30段升温、降温和保温程序
· 设置有温度过高和断偶保护系统
· 控温精度:±1℃
· 可选测PC控制软件,将升温程序和温度曲线导入到电脑中
保修期
一年保修,终身技术支持
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2.双管的真空密封法兰:允许反应气体通过两管之间(10mm间隙)发生反应,冷却气体直接通入内管.
3.四通道质量流量计控制4路气体。
4.配有KF25快接和波纹管的高速机械泵。
5.炉子底部装有滑轨:炉子可以从一端滑向另一端,从而实现快速升温和降温