等离子刻蚀机 SCEA1414

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产品型号：SCEA1414

品牌：其它品牌

公司名称：武汉迈可诺科技有限公司

所在地：湖北武汉

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产品简介

　　等离子刻蚀机，又叫等离子平面刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀机，是干法刻蚀中*常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。

产品详细信息

平面刻蚀是在两块平面电极之间进行刻蚀,它与常见的感应耦合等离子体（ICP）不同,是通过高压线圈产生的。我们的SCE系列铝制反应舱等离子体系统是该领域*新的产品。
无论是做研发阶段还是量产阶段,总有一款SCE系统可以满足用户的需要。无论从设备设计质量还是经济实用的角度考量,我们的等离子平面刻蚀机都具优势。
SCEA1414铝制舱等离子平面刻蚀机
1,可配三路气体通路；
2,约45升舱体容积（14x14x14英寸）的反应舱；
3,可配四种不同等离子模式的四托架结构；
4,射频功率为0-300 瓦, 13.56兆赫兹；
5,可选配 600瓦和1000瓦 13.56兆赫兹的功率源；
6,可选配低频；
SCEA1818 铝制舱等离子平面刻蚀机
1,可提供四路气体通道；
2,约96升舱体容积（18x18x18英寸）的反应舱体；
3,配有6托架结构,可支持初级或者下游等离子
4,可选配机械手样品上下载装置；
5,可选配生产线设置；
6,射频功率为0-600 瓦, 13.56兆赫兹；
7,可选配1000瓦 13.56兆赫兹的功率源；
8,可选配低频；
SCEQ0408石英舱等离子平面刻蚀机
1,可配三路气体通路；
2,约1.6升舱体容积（4英寸直径8英寸深度）的反应舱体；
3,标配射频功率为0-150 瓦手调,13.56兆赫兹；
4,可选配0-300瓦电调,13.56兆赫兹的功率源；
SCEQ0608石英舱等离子平面刻蚀机
1,可配三路气体通路；
2,约3.7升舱体容积（6英寸直径 8英寸深度）的反应舱体；
3,标配射频功率为0-150 瓦手调,13.56兆赫兹；
4,可选配0-300瓦电调,13.56兆赫兹的功率源；
SCEQ0808石英舱等离子平面刻蚀机
1,可配三路气体通路；
2,约6.5升舱体容积（8英寸直径8英寸深度）的反应舱体；
3,标配射频功率为0-150 瓦手调,13.56兆赫兹；
4,可选配0-300瓦电调,13.56兆赫兹的功率源；
石英舱系统可以配置,用于平面定向要非等向性和感应耦合等离子体（ICP）定向两种模式的等离子体产生。
需要更详细的等离子平面刻蚀机的信息,