K550离子溅射镀膜仪 K550
产品简介
仪器介绍 K550X具有旋转样品台,它也可倾斜,非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得**镀层及重复厚度沉积更为方便。 使用磁电管靶在低电压时可提高效率,K550X能得到非常精细的颗粒,由于是冷溅射,所以无需冷却靶面或样品台。 腔室直径为165 mm(6英寸),非常方便装载及移走样品。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶(或用户选择),提供*适合的性能价格比。可
产品详细信息
技术参数 |
2.工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H
3.**钟罩:聚碳酸酯
4.重量:18公斤
5.靶:60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面)
6.样品台直径为60 mm,靶面距离40mm,具有倾斜装置的旋转台
7.真空范围:ATM-1x10-4 mbar
8.沉积电流范围:0-50mA
9.沉积速率:0-25nm/分
10.溅射时间:0-4 分钟
11.预设置针阀:控制氩
12.电源:230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)