MAT - 化学机械研磨机 (CMP) 及 其清洗设备
产品简介
MAT - 化学机械研磨机 (CMP) 及 其清洗设备
产品详细信息
MAT Inc. 成立于 1998年9月
12年研发、生产 CMP及 其清洗设备经验
用途广泛 : MEMS, SOI, 光学组件, HDD, SiC, Sapphire, 先进电路板、LCD 之生产 及CMP耗材及 IC制程之研发
晶圆大小由 1” ~ 12” 及 LCD 面板
可选人手及全自动样品加载载出
可选样品干入干出或湿入湿出
具多种终点侦测方式可供选择
清洗设备具 scrub cleaning, rinse, spin-dry and mega-sonic 功能
- 占日本 R&D CMP 市场超过70%
详细资料可参考www.j-mat.co.jp
12年研发、生产 CMP及 其清洗设备经验
用途广泛 : MEMS, SOI, 光学组件, HDD, SiC, Sapphire, 先进电路板、LCD 之生产 及CMP耗材及 IC制程之研发
晶圆大小由 1” ~ 12” 及 LCD 面板
可选人手及全自动样品加载载出
可选样品干入干出或湿入湿出
具多种终点侦测方式可供选择
清洗设备具 scrub cleaning, rinse, spin-dry and mega-sonic 功能
- 占日本 R&D CMP 市场超过70%
详细资料可参考www.j-mat.co.jp
