Polyteknik - 真空镀膜设备
产品简介
Polyteknik - 真空镀膜设备
产品详细信息
l 度身订做, 可于同一台设备上整合不同工艺:
电子束蒸镀
磁控溅射(直流、射频)
等离子化学气相沉积
HIPIMS(高功率脉冲磁控溅镀,High Power Impulse Magnetron Sputtering)
掠射角沉积(GLAD - Glanced Angle Deposition)
l 加载互锁真空室(Loadlock)及等离子表面处理可选
l 可应用在不同衬底:硅片、高分子材料、布疋、玻璃……
l 由研发用的单片式设备、量产型设备、 卷对卷以至集束型设备(Cluster Tool) 一应俱全
l 良好的镀膜均匀性
l 工艺参数自动记录, 方便日后追踪
l 全计算机自动化控制
l **互锁功能
l 所有部件使用***子, 性能稳定可靠
l 亦提供小批量代工生产及工艺研发
自设实验室设有红外傅立叶分析设备、椭偏仪、X射线成分分析及台阶仪等设备

