超高真空磁控溅射系统
磁控溅射系统
4-6个磁控靶台DC源RF源Ar气气氛控制真空度10^-10Torr1"-4" Substrate
超高真空磁控溅射全部配备国外*先进泵组保证稳定的真空稳定工作状态实现磁控溅射方式的分子级薄膜生长
美国SVTA公司2009年隆重推出的*具智能化的镀膜设备。磁控溅射领域*新突破,实现磁控溅射方式的变革,为磁控溅射增添新的发展空间,使磁控溅射方式的*新探索。