Leica/Bal-Tec电子显微镜制样设备(电镜制样) Leica EM系列　

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适用于光学显微镜,TEM,SEM样品的样品制备

Leica EM TXP 自动靶面处理机
Leica EM TXP是全新设计的自动靶面处理机，它具备样品切割、靶面研磨、抛光和电镜样品修块等多种功能，并且自动化的产品设计使得以往耗时的靶面处理过程变得简单而快捷。EM TXP一体化整合立体显微镜和LED环形照明系统，除满足常规的SEM、TEM和LM等样品切割后表面抛光和组织修块外，还特别适用于极微小样品的靶面处理。

Leica EM RES101 离子减薄
全计算机控制的多功能离子减薄系统,有高度的灵活性,减薄角度可调由0º至90º ,一体化设计,重复性实验设备,可靠具操作性 ,全电脑控制,**的参数调整,运行中无需人干涉 ,鞍式离子枪,高能量-快速蚀刻 ,制冷系统,铜传导,确保TEM,SEM在低温下操作 ,主机内置2级泵,确保高真空

Leica EM FC6 冷冻超薄切片机
UC6配备FC6冷冻超薄切片装置是生物冷冻超薄切片和工业冷冻超薄切片的必须选择. 利用预编刀台切片程序，加上内置静电发生器和EM FC6冷冻箱,用户可以很轻易舒适地完成常温/冷冻的超薄切片工作。两分钟内就可完成工作. 

Leica EM TIC020 离子减薄
三重离子束的斜面切割功能为扫描电镜分析样品提供**和高效的样品制备,减薄深度速度 1500um 120um/H ,三束离子枪,高真空,内置2级泵 

Leica EM SCD005 冷喷涂仪
冷喷涂仪能满足广泛的SEM喷涂要求,细微颗粒膜层,水冷喷涂头,可用蚀刻程序清理样品面

Leica EM SCD050 冷喷涂仪
冷喷涂仪能满足广泛的SEM喷涂要求,细微颗粒膜层,水冷喷涂头,可用蚀刻程序清理样品面

Leica EM SCD500 高真空喷涂仪
高真空喷涂仪能满足高分辨率FE-SEM的喷涂要求,内置的隔膜泵和涡轮分子筛泵系统提供真空无油的制样环境,操控简单容易,可以选用各种金属标靶

Leica EM MED020 真空喷涂系统
模块组合桌面型的高分辨率真空喷涂系统,提供多种制样处理,多样化的模块满足各种不同的应用,涡轮分子筛泵系统和可选的冷陷提供干净的制样环境,通用控制单元分别操控真空系统,真空测量和喷涂处理

Leica EM VCT100 冷冻传送系统
通过冷冻传送系统为分析样品提供无交叉污染的传送,常温或冷冻样品传送都能做到无污染,传送杆重量很轻,不影响分析装置
能保障分析装置的分辨率不变,样品制备和分析独立分开,样品制备重复性高

Leica EM BAF060 冷冻蚀刻系统
**的冷冻蚀刻系统,能提供**的冷冻断裂接著高分辨率的喷涂功能. 没污染没假象的样品制备,装载仓气闸加快样品真空传送装载,电子束喷涂角度可调和旋转造影

Leica HPM100 高压冷冻系统
冷冻样品,深入200μm厚,直径达6mm,不会产生冰晶现象,活样品不用冷冻保护,可以冷冻悬浮样品,培养细胞和组织,冷冻效果重复性高,装载样品快速,操控容易,一按完成样品冷冻固定

Leica EM CPC
CPC以模块式设计,便于快速和容易更换仪器组件：冷冻固定，冷冻制备和冷冻观察。CPC是一种"艺术造型"的多功能工作装置，用于多种样品制备：渗入式冷冻法、使用丙烷和乙烷制冷空网技术和采用MM80注射头的金属镜冷冻固定以及冷冻替代的样品制备，渐进的温度降低法和紫外聚合技术，CPC也可以被作为一个易变温度的冷冻作台使用。

德国品质,适用于光学显微镜,TEM,SEM样品的制备与检验观察