多通道质量控制高真空PECVD管式炉系统 PECVD

产品型号：

PECVD-等离子体增强化学气相沉积法

为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）

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          该产品符合含采购商OHSMS18000职业**健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成伤害！

辉光放电等离子体中：电子密度高109-1012cm³

电子气温度比普通气体分子温度高出10-100倍

虽环境温度在100-300℃，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解，离解和离化，从而大大提高了反应物的活性。

因此，这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。

科晶公司提供定制的薄膜材料的实验室质量可靠、价格合理的紧凑型PECVD系统。

下图显示的是PECVD法用500V交流等离子体与OTF1200X50、7通道精密质量流量计和高真空系统气体组成

OTF-1200X开启式管式炉，工作温度高达1200℃                  化学气相沉积系统的组成图

 技术参数：

• 开启式管式炉

工作温度：1200℃

炉管尺寸：Φ50，Φ60，Φ80都可用

温度控制器：30段高精度数字可编程温度控制器

加热区长度：440mm

恒温区长度：150mm

功率：AC 220V 4KW

• 等离子射频电源

输出功率：50-500W*大可调±1%的稳定性

RF频率：2-150MHz的±0.005%稳定可调

噪声：≤55DB

冷却：空气冷却

输入功率：1KW  AC 220V

• 真空泵和阀门

采用KF25系列波纹管和精密球阀连接

真空度可达10^-3torr

数字真空压力表可直观的显示数值

• 质量流量计

1. 内部装有高精度数字显示质量流量计可准确的控制气体流量
2. 气体流量范围为0-200 误差为0.02%
3. 一个气体搅拌罐上安装了液体释放阀的底部情况
4. 不锈钢针阀安装在左侧可手动控制混合气体输入的数量
5. 进气口：采用国际标准双卡套接头

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炉体：550*380*520mm

供气及真空系统：600*600*597mm

净重：120KG