脉冲激光沉积 PLD

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产品型号:PLD
 牌:MTI
公司名称:深圳市科晶智达科技有限公司
  地:广东深圳
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产品简介

脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laserablation,PLA),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。
    我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000的环境体系要求

产品详细信息


产品型号:
脉冲激光沉积PLD
产品简介:
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laserablation,PLA),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。
    我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000的环境体系要求),不会造成环境污染;
    该产品符合含采购商OHSMS18000职业**健康管理体系标准的要求,不会对接触产品的人员健康造成伤害! 
主要特点:

1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,即具有良好的保成分性;

2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀;

3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制;

4. 发展潜力巨大,具有极大的兼容性;

5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。

技术参数:

电源:单相50/60Hz 220v   

加热(功率)电源:2.5KW  16A

控制柜电源空气开关:25A空气开关 

薄膜生长室温度:室温1200℃

靶材转速:转速20-30转/分

质量流量控制器的标定:氮气

质量流量控制器的流量范围:0-500sccm

机械泵抽气速率:4L/S

薄膜生长室真空度:5min 约40mtor,20min 约15mtor,极限真空10mtor

炉腔内径:45mm

极热温区:200mm

恒温区长度:约100mm
产品规格: 净重:
可选配件:

103高真空系统、供气(混气)系统、各种高纯氧化铝坩埚及石英坩埚、双级旋片机械泵、高纯度刚玉及石英炉管等

产品证书:   CE认证

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