EBPG**电子束光刻系统

EBPG5200 Series **电子束光刻系统	EBPG5150 **电子束光刻系统

EBPG5150系列电子束曝光机是非常先进**的电子束曝光机,在全球范围的先进纳米光刻领域，尤其是在GaAs等晶圆级器件的研发和生产领域中得到了广泛的应用。该系列曝光机显著的优势在于超快的曝光速度，非常高的自动化程度，并具备超高的曝光分辨率，外形紧凑美观等，因此非常适用于各种纳米器件的研发及批量生产。EBPG5150系列设备的模块化、可升级的设计原则，使得其可以适应将来更高的应用需求。

产品特点：

• 高电流密度热场发射电子枪，电压20, 50 ａnd 100kV

• 样片尺寸：6英寸及以下（EBPG5150），8英寸及以下（EBPG5200）

• *小特征尺寸：小于8nm

• 快速曝光图形发生器：50 or 100MHz

• 在所有加速电压条件下，可连续变换大写场尺寸至1mm

• 多用户管理环境，图形用户界面，易学易用

• 灵活的配置，保证更好地适合应用的需要

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