离子溅射镀膜机 K500 离子溅射镀膜机

EMITECH K500 离子溅射镀膜机

    K500X系统使用磁电管靶，使得在使用低电压时提高了效率，并且能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。
    K500X的样品台适合放置各种样品。
    腔室的设计很容易放置和移走样品。
    本仪器装有金靶靶材（或其它可选靶材），靶材更换方便，可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。提供合适的性能价格比。
   

特点 ·低电压溅射 ·高分辨率精细涂层(金颗粒达2 nm) ·均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为20nm 或200A) ·165 mm(6英寸)腔室直径 ·可接膜厚监视器，实时监测镀覆层厚度 ·无需冷却样品台 ·**的再次涂层 ·膜厚度重复性好 ·容易装载或卸载样品 ·可预设沉积厚度 性能指标 1.仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室：硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 3.**钟罩：聚碳酸酯 4.重量：18公斤 5.靶：60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面) 6.样品台：60 mm直径 7.真空范围：ATM-1x10-2 mbar 8.沉积电流范围：0-50mA 9.沉积速率：0-25nm/分 10.溅射时间：0-4 分钟 11.预设置针阀：控制氩 12.电源：230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)