溅射镀膜仪 K650X溅射镀膜仪

K650X溅射镀膜仪(三靶大样品室)
K650X具有三个磁控管，可对大样品进行喷镀，样品台可旋转，保证均匀沉积。这种方法可利用标准靶面，不需要特别的大靶面。
    这种三头靶面系统特别适用于半导体晶片工业。
    本系统使用磁电管靶，在使用低电压时提高了效率，并且能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。
    仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择

特点 ·三个靶面溅射系统 ·全自动控制 ·低电压溅射 ·高分辨率精细涂层(金颗粒可达2 nm) ·具有倾斜装置的特殊旋转台 ·均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为 20nm 或200埃) ·225 mm(6英寸)腔室直径 ·可接膜厚监视器，实时监视镀层厚度 优点 ·适合大样品，如晶圆 ·易操作 ·无需冷却样品台 ·**的再次涂层 ·适合各种样品 ·膜厚度重复性好 ·容易装载或卸载大样品—*大到6"晶圆 ·可预设沉积厚度 性能指标 1.仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室：硼硅酸盐玻璃 225mm Dia x 125mm H 3.基座： 110 mm直径x 115mm高 4.**钟罩：聚碳酸酯 5.重量：24公斤 6.靶：3 x 60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面) 7.旋转台：直径为155 mm，可调节 8.样品台：距离靶面40到50 mm 9.真空范围：ATM-1x10-2 mbar 10.沉积电流范围：0-100mA 11.沉积速率：0-20nm/分 12.溅射时间： 0-4 分钟 13.预设置针阀：控制氩 14.电源：230 伏 50Hz (8amp max. including Pump)