QUARK夸克面发光UV照射装置，准分子清洗机QEF-A4 QEF-A4
产品简介
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产品详细信息
用途
uv臭氧
干蚀刻软件
uv动画
表面改革
残渣残渣
粘玻璃
光cvd等成膜
uv臭氧
干蚀刻软件
uv动画
表面改革
残渣残渣
粘玻璃
光cvd等成膜
仕様
| 波長 | 172nm | |
|---|---|---|
| 照射開口 | 220×310mm | |
| *照度 | 70mW/cm2 | |
| 分布 | ±7% | |
| ユーティリティ | N2、冷却水、AC200V | |
| 機能 | 真空対応可能、照度モニタ、フィードバック制御 | |
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