RTP快速升降温退火炉 TF1200-150-SL-RTP

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产品型号：TF1200-150-SL-RTP

品牌：MICRO-X

公司名称：上海微行炉业有限公司

所在地：江苏昆山

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产品简介

开启式RTP快速升降温退火炉，是由我公司自主研发的高性能热处理设备。本产品采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理，炉体上下两半设计，可自由打开闭合，**可靠，炉管外径150mm，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料真空吸附成型，表面涂有高反射率高温保护涂层，既能降低热量损耗，还能提高炉内温度稳定性。试验样品放置于密封的石英管内，内部洁净度高，可降低间接污染的可能。已广泛用于半导体器件研发及生产等领域，该系统可满足离子注入后的快速退火，也可用于欧姆接触快速合金，还可用于硅化物合金退火，氧化物生长，以及铜铟镓硒光伏应用中的硒沉积等快速热处理工艺场合。本产品采用红外加热，升温速度快达30℃/S，炉体下部配有轨道，可左右移动至底部风扇处，以达到快速冷却的目的。

产品详细信息

RTP快速升降温退火炉 MXG1200-150-SL-RTP
开启式RTP快速升降温退火炉，是由我公司自主研发的高性能热处理设备。本产品采用国际先进制造工艺，造型新颖结构合理，炉体上下两半设计，可自由打开闭合，**可靠，炉管外径150mm，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料真空吸附成型，表面涂有高反射率高温保护涂层，既能降低热量损耗，还能提高炉内温度稳定性。试验样品放置于密封的石英管内，内部洁净度高，可降低间接污染的可能。已广泛用于半导体器件研发及生产等领域，该系统可满足离子注入后的快速退火，也可用于欧姆接触快速合金，还可用于硅化物合金退火，氧化物生长，以及铜铟镓硒光伏应用中的硒沉积等快速热处理工艺场合。本产品采用红外加热，升温速度快达30℃/S，炉体下部配有轨道，可左右移动至底部风扇处，以达到快速冷却的目的。
技术参数
项目	主要技术指标	数据
规格型号	TF1200-150-SL-RTP
温度控制	*高温度点	1200℃
	额定温度	1100℃
	稳定状态温度范围	200-1050℃
	温度测量精度	±0.2℃
	温度控制重复性	±1℃
	温度控制**度	±1℃
	温度均匀性	±2℃
	温度状态工艺时间	7-32 S（200-1050℃）
	*快升温速率	30℃/S（可按需定制）
	降温速率	1-200℃（将试样移出加热区域或通氮气可加快降温）
	温度控制模式	智能模糊PID全闭环控制
触摸屏	尺寸	7寸LCD 工控
物理指标	*大功率	27 Kw
	额定电压	AC380V，50/60Hz
	测温元件型号	K型热电偶
	石英管规格	Φ150*1500
	真空度	选配分子泵真空度可达6*10-3Pa
	抽气端口尺寸	KF40或Φ6mm
	进气端口尺寸	Φ6mm
	冷却方式	自然冷却或强迫风冷N2或压缩空气：2psi（0.14kg/cm2）– 7psi（0.5kg/cm2）
	外形尺寸	深600宽1520高700
	设备重量	100Kg