EMS 575T双头高分辨率离子溅射镀膜仪
产品简介
EMS 575T是一款涡轮泵双头高分辨率镀膜仪(喷金仪)。EMS-575T样本放置在旋转样品台上(the rotary stage),盖好盖子(the chamber lid),按下启动按钮,涡轮分子泵开始加速,5秒钟后,机械泵开始启动,同时十秒气体排空程序启动,两个泵同时运行确保一个高真空。当涡轮泵加速,它的速度由柱状图来标示,到达速度的一半时,真空计扭至自动状态。
产品详细信息
EMS 575T是一款涡轮泵双头高分辨率镀膜仪(喷金仪)。EMS-575T样本放置在旋转样品台上(the rotary stage),盖好盖子(the chamber lid),按下启动按钮,涡轮分子泵开始加速,5秒钟后,机械泵开始启动,同时十秒气体排空程序启动,两个泵同时运行确保一个高真空。当涡轮泵加速,它的速度由柱状图来标示,到达速度的一半时,真空计扭至自动状态。当腔内气体压降为10-4 mbar,排气开始,腔内气压维持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之间,排气的*后阶段,靶材按照**镀膜时间开始喷镀。镀膜需要两种不同金属的,不需要关泵,继续溅射另一种金属。喷镀完成后,两个泵停止,排气阀排气。
仪器质保期2年。模块化的单元结构使得仪器维护方便,摘掉问题模块,换上无问题的模块,仪器即可很好的运行,一点不会耽误实验进程。
性能特征:
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全自动一键式操作,微处理器数字控制方式,可预设参数
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LCD屏实时显示状态参数
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质保期:标准保修期为一年
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高分辨率精细镀层(不超过0.5nm的铬颗粒大小)
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薄金属镀层,典型5nm厚
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涡轮分子泵
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Peltier冷却双溅射头,无需冷却水
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双溅射头:一次真空条件下,可顺序溅射两种不同的材料,对于需要依次喷镀两种金属的样品特别适用
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磁控溅射靶源设计
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旋转机械泵为备用泵,机械泵为外部安装式
仪器参数:
仪器尺寸
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450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)
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工作腔室
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硼硅酸盐玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)
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加不锈钢底座
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110mm(Dia.) x 115mm(H)
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重量
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42Kg
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靶材
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54mm(Dia.) x 0.2mm(Thick) (标准铬靶材和金靶材)
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样品台
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60mm(Dia.) ,以60 r.p.m 旋转,一定的倾斜度
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真空泵工作范围 (Penning)
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ATM to 1x10-7 mbar,镀膜腔体极限真空度10-7 mbar
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操作真空
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1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar
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溅射电流
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0-175mA
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溅射时间
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0-4 minutes
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功率
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1000v at 100 ma, 100 watts
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沉积速率
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30nm/min at 100ma
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涡轮分子泵
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60 litres/Second (Ultimate vacuum 1x10-8 mbar)
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电源配置
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230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)
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Services
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Argon Nominal 4 psi
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真空泵(推荐配件)
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附带真空管和油气过滤器
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订购信息:
货号
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产品名称
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规格
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91110-TH
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EMS 575T Twin Head Sputter Coater, complete with Target
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台
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91005
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Rotary Vacuum Pump
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个
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92045
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EMS 50 Water Chiller
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个
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