产品简介
原理:通过等离子体与固体表面的相互作用,消除固体表面的有机污染物,固体如:金属、陶瓷、玻璃、硅片等等,同时可以用等离子处理系统对样品表面进行处理,改善样品表面的特性,如亲水/疏水特性,表面自由能,以及表面的吸附/粘附特性等等。
产品详细信息
1050型射频等离子处理仪 |
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原理:通过等离子体与固体表面的相互作用,消除固体表面的有机污染物,固体如:金属、陶瓷、玻璃、硅片等等,同时可以用等离子处理系统对样品表面进行处理,改善样品表面的特性,如亲水/疏水特性,表面自由能,以及表面的吸附/粘附特性等等。
1050型射频等离子处理仪(Plasma Asher)的等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成。同时两种处**体流量针阀监控,全部或部分通气口控制。
应用领域:
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生物芯片领域
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医用材料、光学材料研究
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电子半导体领域
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高分子材料研究
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电化学、**零部件处理
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有机材料的灰化、刻蚀
仪器性能:
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自动调频高频发生器
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内置旋转真空泵
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此系统通常使用氧及氩的混合气体,氧去除有机物质(碳氢化合物),氩对样品表面进行刻蚀
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低温等离子灰化、刻蚀、清洗 (0-150 watts RF)
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真空监测.
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双重气流针阀控制
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**时间定时
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微处理器程序设置
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LCD状态数字显示
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腔室为圆柱形,样品装载为抽屉式抽拉系统,样本操作方便
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聚碳酸脂**防护
技术参数:
电镜有机样本的刻蚀尺寸
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450mm(W)x350mm(D)x300mm(H)
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工作腔室
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派热克斯玻璃 150mm(L)x100mm(Dia.)
(硼硅酸盐玻璃为标准配置)
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重量
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25Kg
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等离子体输出
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*大150w,13.56 MHz 。
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等离子体输出
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*大150w,13.56 MHz 。
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真空度
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>ATM to 1 x 10-5mbar;通常 0.5 mbar to 1.0 mbar.
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时间控制
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*长可设置99小时59分钟
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双重气流控制
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双重针阀气流控制,可选1种或2种气体(校准 5-100cm3/min air at A.T.P)
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电源
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230 V, 50Hz (3 amp Max)
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产品信息:
货号
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产品名称
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规格
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93000
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EMS 1050 Plasma Asher
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台
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91005-F
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Rotary Vacuum Pump (Fomblin)
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个
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