Auto500

Auto500 用于DC和RF溅射
Auto500可被装配为研究型溅射系统,设备可安装*多3个溅射源同时允许用户选择DC和RF电源。工艺气体和工装夹具可选为工艺提供了*大便利.

Auto500多工艺应用

Auto500 可适应多种应用. FL500大型腔室可容纳EB3电子束蒸发源,溅射源和热阻蒸发源,使用户在不破坏真空的环境下运用不同的技术进行多次膜沉积. 系统还可提供辉光放电清洗和基板加热以及膜厚监测和控制.

Auto500多功能沉积系统

Auto500是用于研究和预生产的多用途,前装载的沉积系统. 腔体可容纳大尺寸基板,在不损失真空的环境下进行热阻蒸发,电子束蒸发以及溅射工艺. 真空选件包含扩散泵,涡轮分子泵,干泵及冷凝泵a.

Auto500 用于热阻蒸发及电子束蒸发

工艺配件

• 400mm 和500mm宽带水冷装置的不锈钢腔室
• 玻璃钟罩式和玻璃圆筒式腔室
• 单一或多个热阻蒸发源, 4个热阻源安装塔
• 3kW 或 6kW 电子枪
• 固定和选择工件夹具
• 高温基板加热系统
• 蒸发源和基板挡板
• 辉光放电清洗
• 膜厚监测
• 真空锁选件

真空系统
600l/s 扩散泵
500l/s 涡轮分子泵
450l/s 干泵和涡轮分子泵
1500l/s 冷凝泵
14.3m3/h 油封旋片泵和液氮冷井.

**控制

触屏式PLC 真空系统控制
自动高真空工艺阀门保护
完善的**互锁
Auto500 CE认证