EM23 自动椭圆偏振测厚仪 EM23

EM23自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。与EM22仪器相比，该仪器采用半导体激光器作为光源，稳定性好，体积更小。
EM23仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。
EM23仪器还可用于同时测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k。

特点:
•经典消光法椭偏测量原理
仪器采用消光法椭偏测量原理，易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
•方便**的样品水平放置方式
采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。
•紧凑的一体化结构
集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便仪器使用。
•高稳定性光源
采用半导体激光器作为探测光的光源，稳定性高，噪声低。
•丰富实用的样品测量功能
可测量纳米薄膜的膜厚和折射率、块状材料的复折射率等。
•便捷的自动化操作
仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。
•**的用户使用权限管理
软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、操作者等模式），便于仪器管理和使用。
•可扩展的仪器功能
利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。
应用领域:
EM23适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
EM23可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。
技术指标:
项目 技术指标
仪器型号 EM23
测量方式 自动测量
样品放置方式 水平放置
光源 半导体激光器，波长635nm
膜厚测量重复性* 0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
膜厚范围 透明薄膜：1-4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
折射率范围 1.3 – 10
探测光束直径 Φ2-3mm
入射角度 30°-90°，精度0.05°
偏振器方位角读数范围 0-360°
偏振器步进角 0.014°
样品方位调整 Z轴高度调节：16mm
二维俯仰调节：±4°
允许样品尺寸 圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm
配套软件 * 用户权限设置
* 多种测量模式选择
* 多个测量项目选择
* 方便的数据分析、计算、输入输出
外形尺寸 （入射角度70°时）450*375*260mm
仪器重量（净重） 15Kg

 注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次的标准差。
性能保证:
•ISO9001国际质量体系下的仪器质量保证
•专业的仪器使用培训
•专业的椭偏测量原理课程