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法国Annealsys LPCVD 低压化学气相沉积设备

法国Annealsys LPCVD 低压化学气相沉积设备
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产品价格： < 面议
产品型号：
品 牌：法国Annealsys
公司名称：北京朗铭润德光电科技有限公司
所 在 地：北京石景山
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产品简介

法国Annealsys LPCVD 低压化学气相沉积设备 提供LC100单管和LC102双管2种配置的选择。 独立设备，完全PC软件控制，4-英寸LPCVD批量生产退火炉,。应用于长二氧化硅，非晶硅，多晶硅膜等工艺。LC100和LC102致力于R&D应用广泛。

产品详细信息

 法国Annealsys LPCVD 低压化学气相沉积设备，,提供LC100单管和LC102双管2种配置的选择。完全PC软件控制，4英寸LPCVD批量生产退火炉。应用于长二氧化硅，非晶硅，多晶硅膜等工艺。LC100和LC102致力于R&D应用广泛。

应用
 
• LPCVD processes
•LPCVD工艺
• Poly silicon deposition
•多晶硅沉淀
• Low stress silicon Nitride deposition
•低应力氮化硅沉淀
• Silicon dioxide deposition
•二氧化硅沉淀
• Annealing
•退火
• Oxidation
•氧化
• Etc.
•等等
 The LC100 and LC102 are flexible tools dedicated to R&D
LC100和LC102致力于R&D应用广泛
They can be customized upon request for special applications
设备经需求可提供客户定制的特殊应用

设备特性
 
• Multi-zone resistor furnace with LPCVD capability
•多区电阻炉退火炉具备LPCVD性能
• Quartz tube with stainless steel flanges
•石英管配有不锈钢法兰
• Digital PID temperature controllers
•数字PID温度控制器
• Thermocouple control
•热电偶
• Atmospheric and vacuum process capability
大气和真空工艺性能
• Pressure control with throttle valve
•配有节流阀的压力控制
• Purge gas line with needle valve
•配有针阀的吹扫气路
• Up to 12 process gas lines with digital MFC
•*多12条配有数字MFC的工艺气路
• Double tube version (LC102) to avoid cross contamination
•双管版本（LP102）避免交叉污染
• PC control with Ethernet communication for fast data logging
•配有以太网通讯的PC控制用于快速数据记录
• Optional turbo pump
•可选配涡轮泵

PC完全控制软件
 
• Multi-zone resistor furnace with LPCVD capability
•多区电阻炉退火炉具备LPCVD性能
• Quartz tube with stainless steel flanges
•石英管配有不锈钢法兰
• Digital PID temperature controllers
•数字PID温度控制器
• Thermocouple control
•热电偶
• Atmospheric and vacuum process capability
大气和真空工艺性能
• Pressure control with throttle valve
•配有节流阀的压力控制
• Purge gas line with needle valve
•配有针阀的吹扫气路
• Up to 12 process gas lines with digital MFC
•*多12条配有数字MFC的工艺气路
• Double tube version (LC102) to avoid cross contamination
•双管版本（LP102）避免交叉污染
• PC control with Ethernet communication for fast data logging
•配有以太网通讯的PC控制用于快速数据记录
• Optional turbo pump
•可选配涡轮泵

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北京朗铭润德光电科技有限公司
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