微波等离子清洗机 去胶蚀刻设备 GDR
产品简介
等离子清洗机表面处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂
产品详细信息
等离子清洗机去除电路板、外延片、芯片、环氧基光刻胶，所有的基材及复杂的几何构形都可以采用等离子体清洗机去胶、活化、刻蚀、清洗、镀膜。
等离子清洗机在半导体行业的应用：
芯片粘接前处理：去除材料表面污染物，增加 表面润湿性能，提升胶体流动性，保证与其他材料的结合能力
塑封前处理：去除材料表面污染物，使芯片表面与塑封材料结合牢固，减少分层与气泡等**的产生
金属键合前处理：去除金属焊盘上的有机污染物，提高焊接工艺的强度和可靠性
光刻胶去除：去除残留的光刻胶及其他有机物，活化和粗化晶圆表面，提高晶圆表面润湿性等离子清洗机应用于LCD显示屏与柔性薄膜电路 提高材料表面能
微波等离子清洗机实现清洁、活化去胶、刻蚀功效
台式微波等离子去胶机采用高密度2.45GHZ微波等离子技术，用于集成电路、半导体生产中晶圆的清洁去胶、硅片去除污染物和氧化物、提高粘接率，微波等离子体清洗、去胶机能够对微孔、狭缝等细小的空间进行处理，具有高度活性、效率高，且不会对电子装置产生离子损害。 通过工艺验证，微波等离子清洗机降低了接触角度，提高了引线键合强度。
台式微波等离子清洗机的相关应用
晶圆光刻胶清洗：晶圆在封装前采用等离子清洗机处理能去除表面的无机物和污染物，氧化层还原，铜表面的粗糙度提高，产品的可靠性提高。
等离子清洗机器的应用包括预处理、灰化/光致抗蚀剂/聚合物剥离、芯片碰撞、静电消除、介质蚀刻、有机污染去除、芯片减压等。使用等离子清洗机不仅能去除光致抗蚀剂和其他有机物质，而且可以活化和增厚芯片表面，提高芯片表面的润湿性，使芯片表面更有粘合力。
公安机关备案号：
