箱式气氛炉适用于金属，纳米，单晶硅，多晶硅，电池等的扩散焊接，气氛热处理的加热设备用于材料或化学实验室，在气氛状态下烧结各种新材料样品。
箱式气氛炉以硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体。
箱式气氛炉适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。还可用于材料试验、合成、烧结等;陶瓷材料、粉体材料、金属陶瓷的真空烧结。
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