偏光显微镜 光片的制作过程：
在用 偏光显微镜 观察时，其试样要制成合格的磨光片或抛光片，简称为光片。制作过程如下：
(1) 选样：根据观察目的和分析要求选取具有代表性的样品部位，切割成10×10×10mm样块，并清洗干净。
(2) 镶嵌或渗胶：对一些尺寸较小的样品，需要进行镶嵌；对苏松或气孔较多的样品应先渗胶。
(3) 粗磨：选择样品较平整的一面，放在研磨机上用粗砂将表面磨平，整理外观，磨去棱角。
(4) 细磨：用细砂研磨，直到把粗磨留下的痕迹全部**。
(5) 精磨：用更细的细砂研磨，直至表面平坦，放在亮处观察隐约可见反光。
(6) 抛光：将试样置于抛光机上，加研磨膏（抛光粉）进行抛光，直至试样表面光亮，反光显微镜下观察无明显划痕为止。
(7) 标记：磨好的试样应进行编号，贴上标签，明确来源和名称。
(8) 侵蚀：根据观察目的和分析要求选择适合的侵蚀方法及侵蚀条件，对试样进行侵蚀。
需要同时在透射光和反射光下进行显微结构分析时，将试样制成光薄片，甚至超光薄片（<0.02mm）。制备光薄片时，先将试样磨制成厚度为0.03mm的薄片，不加盖玻片，然后在抛光机上对精磨后的薄片表面进行抛光即可。
在用 偏光显微镜 观察时，其试样要制成合格的磨光片或抛光片，简称为光片。制作过程如下：
(1) 选样：根据观察目的和分析要求选取具有代表性的样品部位，切割成10×10×10mm样块，并清洗干净。
(2) 镶嵌或渗胶：对一些尺寸较小的样品，需要进行镶嵌；对苏松或气孔较多的样品应先渗胶。
(3) 粗磨：选择样品较平整的一面，放在研磨机上用粗砂将表面磨平，整理外观，磨去棱角。
(4) 细磨：用细砂研磨，直到把粗磨留下的痕迹全部**。
(5) 精磨：用更细的细砂研磨，直至表面平坦，放在亮处观察隐约可见反光。
(6) 抛光：将试样置于抛光机上，加研磨膏（抛光粉）进行抛光，直至试样表面光亮，反光显微镜下观察无明显划痕为止。
(7) 标记：磨好的试样应进行编号，贴上标签，明确来源和名称。
(8) 侵蚀：根据观察目的和分析要求选择适合的侵蚀方法及侵蚀条件，对试样进行侵蚀。
需要同时在透射光和反射光下进行显微结构分析时，将试样制成光薄片，甚至超光薄片（<0.02mm）。制备光薄片时，先将试样磨制成厚度为0.03mm的薄片，不加盖玻片，然后在抛光机上对精磨后的薄片表面进行抛光即可。
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