PECS II精密刻蚀镀膜仪
仪器简介：
PECS II精密刻蚀镀膜仪是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。
对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。
一款完全独立、结构紧凑的台式设 备。采用两个宽束氩离子源对样品表面进行抛光， 去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在 SEM， 光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。
采用 WhisperLok®技术，可选 配温控液氮冷却台。该功能有助于避免抛光过程 中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化。
PECS II精密刻蚀镀膜仪内置了一个 10 英寸的触摸屏。不管新手还是专家级用户，都可提高样品的加工可控性 及可重复性。数码变焦显微镜配合 DigitalMicrograph® 软件，可实现对样品加工过程的实时 监控及储存彩色照片，这便于在SEM中进行样品检查和分析。
性能优点：
主要应用：
技术规格：
订货编号：LR-200636
