产品详情
简单介绍：
真空镀膜机ei-5z是用于在半导体或特种材料的基板上进行多种金属或合金以及ITO材料真空镀膜的批处理式高真空蒸发镀膜设备。
进口真空镀膜机ei-5z日本ULVAC高真空蒸发镀膜设备可通过触摸屏进行集中操作控制,自动完成从真空排气至镀膜的所有过程,适用于研究开发及小批量生产。
进口真空镀膜机 ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸发镀膜设备
详情介绍：
真空镀膜机 ei-5z
日本ULVAC
高真空蒸发镀膜设备
日本原装进口
日本ULVAC
高真空蒸发镀膜设备
日本原装进口
进口真空镀膜机 ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸发镀膜设备是用于在半导体或特种材料
的基板上进行多种金属或合金以及ITO材料真空镀膜的批处理式高真空蒸发镀膜设备。
的基板上进行多种金属或合金以及ITO材料真空镀膜的批处理式高真空蒸发镀膜设备。
进口真空镀膜机 ei-5z 日本ULVAC 高真空蒸发镀膜设备可通过触摸屏进行集中操
作控制,自动完成从真空排气至镀膜的所有过程,适用于研究开发及小批量生产。
作控制,自动完成从真空排气至镀膜的所有过程,适用于研究开发及小批量生产。
特点:
y可同时安装电子束蒸发源和电阻加热式蒸发源 ;
y能够适合垂直入射的蒸发镀膜工艺 ;
y设备适合穿墙式安装设置方式 ;
y设备采用全自动控制的运行方式、高效、稳定。
【规格】
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型号
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Ei-5Z
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1. 基板
1) 材料
2) 尺寸规格
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・硅(Si)、砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)、玻璃(Glass)、陶瓷(Ceramic)等
・Φ2 ~8inch圆片及各种形状的基板
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2. 真空条件
1) 前级泵
2)主泵
3) 极限压强
4) 排气速度
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・油旋片泵(型号:EC-803) 排气速度:1340/1600L/min at 50/60Hz
・低温泵(CRYO-U16P) 排气速度(N2):5000L/sec
・3.0×10-5Pa 或更低 ・20分钟内达到 3.0×10-4 Pa
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3. 成膜
1) 蒸发源
2) 基板保持架
3) 膜厚均匀性
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・电子束蒸发(10kw,16kw), 热阻蒸发 / 挡板共用
・公转盘,行星盘
・基板内、基板间Φ2~8inch均在±5%以内
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4. 基板加热
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・红外灯加热 (*高350°C)
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5. 操作模式
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・GPCS-2700 触摸屏控制: PC+PLC
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6. 附设
1) 供电
2) 冷却水
3) 压缩空气
4) 放气(氮气)
5) 接地
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・AC200V±10%,φ3,50/60 Hz,50 kVA ・29 L/min, 20~28°C, 电阻率 5 kΩcm,需要压力 0.4 MPa, 背压 0.05 MPa
・0.4 ~0.7 MPa
・0.2 MPa放气及低温泵再生
・A & D (JEM,JEC)
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