臭氧在半导体行业中有多种应用，其中*常见的是用于清洗和表面处理。
清洗：臭氧在半导体制造过程中被广泛用于清洗表面。它可以去除表面的有机污染物、金属氧化物和其它杂质，使表面变得更加纯净。臭氧清洗的优点是，它可以对不同形状和大小的物体进行清洗，不需要使用化学物质，不会产生废物或有害副产品。
表面处理：臭氧还可以用于表面处理，以改善半导体器件的性能。例如，在硅晶圆表面形成一层臭氧化硅，可以提高其绝缘性能和稳定性。臭氧也可以用于改善氮化硅和氧化铝等材料的表面性质。
其它应用：臭氧还可以用于半导体制造过程中的其它应用，例如用于刻蚀和表面微加工。
总之，臭氧在半导体行业中具有重要的应用，可以改善器件性能和生产效率。
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