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金相磨抛机-精密研磨抛光的机理
金相磨抛机-精密研磨抛光的机理
无论金属或非金属工件，要想获得高质量面形（平面度、尺度精度）优选的加工方式是：磨与抛（然后才能进行其它的加工方法，如化学抛光等。）
　　磨又可分磨削和研磨。
　　磨削的过程是瞬间工件部分表面与磨削体（如砂轮）参与磨削。例如：平面磨床瞬间砂轮外园与工件平面线接触磨削，随着平面与砂轮的相对位移，完成平面磨削。砂轮的磨损是影响精度的重要因素。
　　研磨的过程是瞬间工件部分表面与磨削体（磨盘）全部参与磨削是面接触。几乎无磨削体损耗不均匀问题存在，所以研磨面形质量高。
　　抛光是采用更微细。柔软磨削体研磨工件平面，已获得高质量面形。
       精密研磨抛光机工件所受的磨擦力来自载料盘的重量（磨擦力＝磨擦系数×正压力），开始只有部分高点参与研磨，每点承受磨擦力大。随着研磨时间增加参与研磨点越多，精度越高，若整个工件平面与研磨盘面全部接触，超**研磨盘面形复制在工件上。
　　在正常研磨工作中，可随时取下载料盘，在测厚仪上检测研磨盘。再放在载料盘上，由于研磨机工作参数没有变化，精度不会受到任何影响。
        研磨运动轨迹由3种运动轨迹合成。
　　**种：研磨盘回转与工件平面研磨的运动轨迹。回转中心是研磨盘中心。
　　**种：工件平面自转与研磨盘研磨的运动轨迹。相对回转中心是载料盘中心。
　　第三种：工件随载料盘支架摆动与研磨盘研磨运动轨迹。回转中心是支架摆动中心。
上述三种运动轨迹方向不同，回转中心不同，三种运动轨迹合成复制在工件上达到无轨迹的效果。
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