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真空镀膜机的原理介绍
日期：2025-03-05 04:44
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摘要：
真空镀膜机用于在真空条件下，采用电阻式蒸发源的形式，对石英晶片蒸镀一层导电膜，通常为铬和
银，使其形成电极，以便被作成各种频率的石英晶体振荡器，真空镀膜机可适用于表晶晶振器和高频振器的厂家。
其特点为：
１．整个镀膜过程是在真空、恒温、自动控制中进行的，保证了膜层的均匀性、一致性及膜层的牢固度。
２．在连续高温烘烤的环境中，18个工位的夹具连续60-120度翻转，夹具定位准确，无噪音、无卡滞现象，确保一次蒸镀的6048个晶片上每个被镀表面蒸镀上均匀、牢固的膜层。
３．真空室结构设计紧凑、合理、可靠性好。
４．真空控制选用可编程控制器及石英晶体膜厚速率监控仪，可分层控制膜层厚度，当膜层达到一定厚度时，蒸发源挡板自动关闭并监测蒸发速度，实现真空控制自动化。