主要功能和特点：
1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，*高真空可达0.0001Pa；
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的**性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套连接，不漏气；
5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用**可靠。
主要用途：
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。
主要技术参数：
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SKGL-1200 |
控温方式 |
采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。 |
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加热元件 |
0Cr27Al7Mo2 |
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工作电源 |
AC220V 50HZ/60HZ |
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额定功率 |
4KW |
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炉管尺寸 |
Φ60/Φ80/Φ100*1000mm |
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工作温度 |
≤1150℃ |
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*高温度 |
1200℃ |
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恒温精度 |
±1℃ |
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加热区长度 |
440mm或220mm/220mm |
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升温速度 |
≤20℃/min |
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密封方式 |
不锈钢快速法兰挤压密封 |
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ZK-F |
真空范围 |
0.1-0.001Pa |
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极限真空 |
4.0*10^-4Pa |
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产品配置 |
双级旋片真空泵+分子泵 |
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测量方式 |
复合真空计 |
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真空规管 |
电阻规+电离规 |
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冷却方式 |
风冷 |
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工作电源 |
AC220V 50/60HZ |
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抽速 |
110L/S |
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ZDFC-Ⅲ |
测量范围 |
5～1*10^-5 Pa |
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稳压(真空)范围 |
1～5*10^-3Pa |
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压力(真空)稳定精度） |
±3% |
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控制范围 |
2.5*10^3～1*10^-4 Pa |
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控制精度 |
± 1% |
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HQZ-Ⅲ |
控制方式 |
D07-7K质量流量计,D08流量显示仪 |
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流量规格 |
0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置） |
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线性 |
±1%F.S |
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准确度 |
±1%F.S |
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重复精度 |
±0.2%F.S. |
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响应时间 |
≤2sec |
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耐压 |
3MPa |
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气路通道 |
3通道（根据客户需求） |
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针阀 |
316不锈钢 |
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管道 |
Φ6mm不锈钢管 |
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接口 |
SwagelokΦ6mm |