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USHIO紫外线光阻剂硬化设备
紫外线照射机,在LSI制造生产在线使用的紫外线阻剂固化、及电荷消除设备。
配备超高压UV灯与EXCIMER灯,应用在提升干蚀刻时的耐电浆性、离子注入时的阻剂脱气与烧制、电荷消除、疲乏消除、及 Low-k Cure等各种用途。
USHIO紫外线光阻剂硬化设备
特征
高照度、均一度照射
初期照度是650mw/cm2以上(220~320nm)、且照度均匀度保证在±10%。
采用依据SEMI规定之装载接口的EFEM(φ12吋设备)
φ12吋用设备、采用装载接口(依据SEMI) 的EFEM、以及搬运系统 采用无尘快速的2Finger搬运机器人、以达到高Throughput。
采用WindowsNT PC的高操作性与以GEM300为准(φ12吋设备)
φ12吋用设备采用Windows NT PC,达到**的操作性。亦符合GEM300规定。
灯管设备更换容易
灯管更换时无须调整,并降低装置的停机时间。
配备照度一定模式与累积计算曝光模式(φ12吋设备:选购配备)
使用照度一定模式、并累积计算曝光模式、达到制程的稳定化与一致化。
豊富的产品系列
对应φ6吋用设备(可与φ5吋以下共享)、φ8吋用设备( 可与φ6吋以下共享)、以及φ12吋专用设备等所有工具匣。此外,亦备有准分子(Excimer)灯的φ8吋用设备。
USHIO紫外线光阻剂硬化设备
2Finger搬运机器人
USHIO紫外线光阻剂硬化设备
灯光设备
USHIO紫外线光阻剂硬化设备
主要用途
提升干蚀时的耐电浆性
离子注入时的阻剂脱气及烧入
电荷消除与消除疲乏
Low-k Cure
薄膜磁头之层间绝缘膜形成
化合物半导体的Lift-Off工程
表面改质
CCD与CMOS影像仪的去色(bleaching)等
测试机介绍
可使用产品进行各种测试。详细内容请洽询。
※可能无法满足部份要求内容、敬请见谅。