匀胶机：顾名思义,是把胶均匀地涂在基片上的一种机器。方法很多，有滚涂，浸涂，喷涂，旋涂等，各有优缺点。不同的应用采取不同的涂胶方法。其中旋涂用得*多，那是因为它能取得*高的均匀性，是半导体微电子领域里光刻工艺的通用的方法。
匀胶机主要关键元器件由美国进口，整机装配在国内安装调试完成。该机2002年已通过CE认证，其抗干扰以及干扰性都较其他非CE产品要好。该性能的具体表现为：当该匀胶机在运转时，它不影响同处一室的其他设备，以保证其他设备的正常使用（如指针不漂移等受干扰后有影响的反应）；同时它本身也不会受到其他同处一室的设备运转而产生的磁场的干扰，从而保证实验效果的稳定性和可靠性。
工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，匀胶机常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。可以设定多达20个程序段来存储不同材料的制备过程，每个程序段都能设定51步速度改变，当前参数具断电保护功能。