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SEN日森紫外线清洗灯SUV110UH-34

日期:2024-11-24 01:56
浏览次数:931
摘要:SEN日森紫外线清洗灯SUV110UH-34
SEN紫外线清洗灯SUV90US-43

紫外线清洗

紫外光清洗的工作原理

紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质,经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。更详尽的讲:UV光源发射波长为185nm和254nm的光波,具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力,并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子,这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体:二氧化碳和水蒸气等逸出表面,从而彻底**了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。清洗时,使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送,上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多,其表面水接触愈小,成反比关系。一般STN-LCD制作过程中,需求的玻璃基板累积紫外线能量为300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩STN-LCD及彩色滤光片制作过程中,要求的玻璃基板累积紫外线能量600mj/cm2(253.7nm)。 

适用范围

液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料

主要材料:ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅芯片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。可以去除污垢:有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等

使用紫外线清洗时要注意以下几个方面:(1) 污垢中的无极成分或处理后的灰分会残留在物体表面,因此需要采用相应的办法进一步**,如加装真空除尘或与超声波干洗配套使用。(2)处理时,当清洗对象表面与照射光源距离稍远时,产生的臭氧会自动分解失去作用,一定要注意清洗表面与光源的距离,也就是注意平台或传送带上工件的高度或厚度。(3)这种处理方法要求紫外线能透过清洗对象表面,对有立体结构的清洗对象不太适合,只能清洗表面结构的物体。(4)由于需防止臭氧扩散对人体造成损害,需要在封闭装置中进行清洗。(5)由于臭氧是通过氧化反应去除污垢的,所以容易被氧化的表面不能用这种方法处理。

1光清洗产品

1-1灯管

SUV90UH-34,SUV90UH-42,SUV90US-43,SUV90UH-43,SUV90UH-52

SUV90UH-88,SUV90US-88,SUV90US-93L,SUV90UH-A0,SUV90UH-A2

SUV90US-53,SUV90UH-53

SUV90US-99,SUV90UH-99

SUV110US-43,SUV110UH-43,SUV110US-88,SUV110UH-88

SUV110US-53,SUV110UH-53

SUV110US-99,SUV110UH-99

EUV200US,EUV200UH

EUV200NS,EUV200NH

SUV110GS-36,EUV200GS-14

SUV110PL-23A,EUV200PL-19

MSW-90

EUV250WH-1L,EUV200US-77,EUV200US-43

SUV110UH-94,SUV110US-59,SUV110US-42,SUV110US-77

SUV110UH-34

SUV110DL-10

SUV90DL-10

SUV40GS-65,SUV40DL-2

笔式灯特种灯

SP-3-2H,SP-3-2L

SP-5-2H,SP-5-2L

SL5DH,SL5UH-4

1-2实验室小型设备

PL16 PL17 PL21 PM2003

1-3大型生产设备

1-3-1抽屉式

PM906B

PM908B

PM11010B

1-3-2传送带式

PM9020C

PM9010C

PM11010C

PM20036C

1-4安定器/电源

SEU1002B3(200V)

SEU1101B(100V)  HB100A-1

SEU2002SB

SEU2002WB

UVB110(桌上型电源)

UE1101N-19 (PL16用电源)

UVE-200J (PL21用电源)

2光固化产品

2-1普通高压汞灯

HL100G HL400DL HL1000DL-15 HL2000DL HL3000DL

2-1-1手提式

HLR100T-2  HLR400T-1 HLR400F-21~28 HLR1000T-1 HLR1000F-21~28

2-1-2桌面式

HCT400B-25/28 HCT1000B-25~28

2-1-3传送带式

HCC400B-25/28 HCC1000B-25~28

2-2金卤灯

HM1500DH-3  HM3000DH-3

2-2-1手提式

MLR1500B-23/28 MLR3000B-23~28

2-2-2桌面式

MCT1500-24/28

2-2-3传送带式

HM15001C-2

安定器/电源

2-4电源

HB100A-1 HB100A-2(手提式HLR100T-2电源)

HB400A-5(手提式HLR400T-1用电源)

HB1000A-5(手提式HLR1000T用电源)

3光化学产品

3-1光化学灯管

HL100CH-14   HL400BH   HL1000JH   HL1000W   HL2000J
小型准分子照射装置,准分子清洗机XPL-1502-X
周呈亮:13717022388

基本样式

发光波长

172nm

照度

灯管正下20mW/cm2

照射范围

150x70mm

尺寸

W320xD250xH300mm

输入电压/频率

AC100V  50/60Hz通用

消费电力(含排气扇)

400W

臭氧排气

附属的风扇接续   Φ38mm风管

必要的N2量

5L/min  接续  外径Φ6mm接头

灯管

SX150 x 2支

※品均寿命2000小时

照射时间

00分00秒—99分59秒

累计时间计

0.1小时-9999.9小时(可归零)

主要功能

亲水性,改善各种表面、接着性、密着性

分解有机物进行洗净

主要用途

光学玻璃、基板的清洗

难接着的塑胶接着性改善

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