SHINKUU日本真空设备磁控溅射沉积设备 MSP-40T 北崎国际贸易（北京）有限公司

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简单介绍：

该器件是一种多用途、易于操作的磁控溅射沉积系统。它是一种小型桌面式和小空间设备，可以使用强磁场形成各种金属的薄膜。

详情介绍：

关于必需的实用程序
氩气
出口压力 0.05MPa~0.08MPa，接口 1/4“ 世伟洛克

水冷机构
流量 1 升/分钟，连接 Φ6 mm 世伟洛克
冷却水循环系统或自来水连接。

特征

主要产品规格

项目	规范
权力	AC100V（单相 100V）15A 3 芯插头，带地线
设备大小	宽 504 mm，深 486 mm，高 497 mm （设备重量 37.7 kg）
隔膜泵	宽 170 mm，深 287 mm，高 173 mm （重量 6.5 kg）
试样底座尺寸	直径50mm（阳极分离浮法）
电极与样品的间距	115 mm、95 mm、70 mm （包括按高度计算的样品架）
目标金属	ITO、Ti、W、Cr、Al、Ni、Fe、Ge、Zr、Mo、Cu、Ta、Carbon等。贵金属靶材（使用磁场消除镍板） Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Pd、Ag

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产品名称：SHINKUU日本真空设备 磁控溅射沉积设备